中美半導體及印刷電路板廢水處理技術國際研討會
議     程

時間︰ 八十八年五月五日
地點︰ 台灣大學應用力學研究所 國際會議廳
台北市羅斯福路四段一號
Time Function
08:30~09:00

報到Registration

09:00~09:45

開幕式Opening Ceremony

09:45~10:45

半導體業及印刷電路板業美國環保法規
Environmental Regulations for Semiconductor and PWB Industries

Mr. Steven Hoover, US EPA

10:45~11:00

休息Coffee Break

11:00~12:15

半導體業水回收再利用、零排放設計
The Future in Semiconductor Facility Design
– Reclaim, Recycle, Reuse Approaching Zero Discharge

Mr. Roger Bonisolli, ADP Marshall

12:15~13:15

午餐Luncheon

13:15~14:15

廢水中氟、硫酸及銅再生再利用技術
Recovery and Recycling of Fluoride, Sulfuric Acid and Copper from Wastewater

Mr. Joe Su, Applied Materials Inc.

14:15~15:15

半導體業氟化鈣污泥減量及再生再利用技術
Calcium Fluoride Sludge Minimization and Reuse Technologies for Semiconductor Industry

Mr. Roger Bonisolli, ADP Marshall

15:15~15:30

休息Coffee Break

15:30~16:30

印刷電路板業污染預防案例美國經驗
Design for the Environment PWB Projects in the US – Pollution Prevention

Ms. Kathy Hart, US EPA

16:30~17:00

討論Discussion


回上一頁